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四腔HMDS真空烘箱 電腦式多工位HMDS烘箱將六甲基二硅烷（HMDS）快速、均勻且經濟高效的對襯底預處理，從而提高襯底與光刻膠的附著力

偶聯劑蒸鍍機和抗黏劑蒸 鍍機的區別應用工藝和鍍膜化學品區別不同，應用于半導體，集成電路，MEMS工藝，建筑材料，航天新材料

玻璃棉卷氈憎水處理系統 憎水劑噴涂機是將憎水劑滲透進入纖維間的微孔隙，固化后在孔隙表面形成納米級疏水膜，減少水汽通過毛細作用滲透的通道，同時保持纖維間孔隙的保溫性能（憎水率≥98%）

偶聯 劑涂布機 硅烷偶聯劑氣相沉積系統應用方法指通過表面預處理方式,改善材料界面性能的技術，其核心機制依賴于硅烷分子的水解縮合及與基材的化學鍵合作用.

表面改性疏水處理設備用蒸汽涂覆（Vapor Prime）將 疏水劑均勻覆蓋在產品表面；

實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時增強光刻圖形的完整性.

大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。